光刻机发明的故事

光刻机发明的故事？

回答如下：光刻机是一种将电路图案转移到芯片表面的关键设备，是半导体行业中最重要的制造工具之一。以下是光刻机的发明故事：

20世纪60年代初，美国贝尔实验室的研究人员David N. Payne和Ronald C. Wittmann发明了一种利用激光光束进行光刻的方法。他们使用了一种叫做光致电离的现象，通过激光将一种化学物质转化为一种有机气体，从而形成所需的电路图案。

1965年，日本NEC公司的研究人员Yasuo Doi和Eiichi Kondoh发明了第一台光刻机，采用了光致电离的方法。该光刻机可以将电路图案刻在硅片上，使之成为可用于芯片制造的基础。这一发明开启了半导体行业的新时代，使得芯片制造成为可能。

在随后的几十年里，光刻机得到了不断的改进和完善，成为了半导体行业中不可或缺的工具。现代的光刻机能够在纳米级别上进行精确制造，为半导体行业的发展和进步奠定了坚实的基础。

1947年，贝尔实验室发明了第一只点接触晶体管。从此光刻技术开始了发展。

1959年，世界上第一架晶体管计算机诞生，提出光刻工艺，仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片。

1960年代，仙童提出CMOS IC制造工艺，第一台IC计算机IBM360，并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线，美国GCA公司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。

1970年代，GCA开发出第一台分布重复投影曝光机，集成电路图形线宽从1.5μm缩小到0.5μm节点。

1980年代，美国SVGL公司开发出第一代步进扫描投影曝光机，集成电路图形线宽从0.5μm缩小到0.35μm节点。

1990年代，ASML（ASML）开发出FPA2500，193nm波长步进扫描曝光机。光学光刻分辨率到达70nm的“极限”。