国产光刻机多少nm

国产光刻机多少nm？

光刻机是芯片制造过程中的重要机器，光刻机的先进程度决定了芯片的质量。

我国光刻机最高技术是上海微电子研究所的90nm工艺，它的SMEE200系列光刻机、300系列光刻机、500系列光刻机、600系列光刻机只能够达到90nm工艺水平。而像江苏无锡影幻半导体公司、合肥芯硕半导体公司都只能够拥有200nm工艺的光刻机量产能力。

世界上最顶尖光刻机是荷兰的ASML掌握，ASML占有了全球超过80％的市场份额，可以达到7nm工艺水平。