光刻机和刻蚀机的区别 蚀刻机是干什么用的

光刻机和刻蚀机的区别

刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。

“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。
“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。


扩展资料：
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动
1.手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；
2.半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；
3.自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
参考资料：搜狗百科-光刻机，搜狗百科-刻蚀

蚀刻机是干什么用的

通常所指蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护摸去处，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板，名牌及传统加工法难以加工之薄形工件等之加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。

蚀刻机刻产品为什么刻的不深却把感光胶刻破了

这种情况的确经常出现，究其原因主要有以下几个方面：
1，上墨前除油环节不彻底，导致附着力欠佳。
2，油墨层在蚀刻前没有经过固膜处理。
3，蚀刻液尽量不要添加盐酸以外的其他类型酸，有些酸对油墨破坏力很强的。
4，墨层太薄或者过厚，都会出现这种情况，过厚的墨层，曝光以及后期固化往往不会彻底，造成附着力不佳。
5，蚀刻机喷头压力过大。
6，蚀刻液温度过高，浓度、酸度过大。
7，板材原因，真的有些板材对油漆油墨的附着力很差，几年中我曾遇到过三两次，只能通过更换其他厂家的板材来解决。