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PROTEL封装 光刻机工作原理

2023-04-18 19:01:09 互联网 未知 科技

 PROTEL封装 光刻机工作原理

PROTEL封装

你说的是原理图吧,那个需要手动输入的。比如0805,那么在PCB里边就有相对应的0805元件封装。
你可能还不太懂,PCB有PCB的元件库,比如0805是软件安装的时候就会有的,特殊的元件就需要你自己做。我教你如何做PCB元件库,在DDB里面单击鼠标右键,点new /双击PCB Library Document 图标重新取个名字,进入后到你的PCB库里面去做元件,按T键,点上面的New Component菜单,Component Wizard菜单弹出,通常我都是直接点Cancel,然后在左边的元件名上单击鼠标右键弹出Rename Component对话框,把对话框里面的“PCBCOMPONENT_1”修改你需要的名字,现在就可以在里面画元件了,画好了后保存在D盘(当然是假设放D盘),做好的元件放在了D盘需要使用它,请任意打开你的PCB资料,在左边Browse下面点击下拉箭头,选择Library菜单,再点下方的Add/Remove,弹出PCB Library对话框,在查找范围里面选择你刚才存在D盘的元件DDB,再点Add就可完成了,增加了这一次以后都不用去增加了。
原来图的元件库就前面那个“在DDB里面单击鼠标右键,点new /双击PCB Library Document”改成这样“在DDB里面单击鼠标右键,点new /双击Schematic Library Document图标”其他步骤差不多。
软件有自带一些通用元件库,在你的软件安装根目录下Design Explorer 99 SE文件夹下的Library文件里面有默认的PCB和原理图元件库。实在不知道CTRL F键在C盘找吧!
兄弟我都累了,希望能帮到你。

光刻机工作原理

光刻机/紫外曝光机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

光刻机中国能造吗?

暂时不能

光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出。

当中国专家去荷兰阿斯麦尔公司参观光刻机的时候,阿斯麦尔的高管直接对中国的专家说:就算给你全套图纸,你们中国也造不出光刻机。 很多中国人听到这句话都非常的气愤,凭什么中国就造不出光刻机?

近年来关于国产光刻机弯道超车的新闻频繁在各类媒体中出现,国人想要在光刻机技术上超越欧美发达国家的爱国情怀可以理解,但部分媒体为了博取眼球对国产光刻机过分的吹捧,不尊重事实的报道对普通大众而言其实是一件特别不负责任的事情。

理想很丰满,现实很骨感,以中国现在的科技水平确实造不出光刻机,光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,光刻机的内部十分复杂,可以说是人类知识集大成的产物之一,光刻机就像手机和汽车一样,是由无数的零配件组装合成的,最终实现某种功能,成品背后需要无数的产业链支持,各式各样的零配件都是行业内顶级的技术体现,没有长时间的深耕运作,国产光刻机在单一的某项技术上实现领先是没问题的,但是想要在整体上实现弯道超车,基本上不现实。

举个例子:比如马拉松长跑比赛,第二名与第一名的差距相差3公里,在某一个时间段,第二名选手的速度超过了第一名选手,这仅仅代表着第二名选手最终有超越第一名选手的可能,但是3公里路程的巨大差距却不是一时半会可以赶上的,想要超越,时间跨度将非常大,因为你在努力向前跑的同时对手也在努力向前跑。

荷兰阿斯麦尔之所以能够垄断全球最顶尖的光刻机市场,不是因为荷兰人聪明,单纯靠荷兰人也研发不出光刻机,光刻机的研发集合了全球优势资源加上半导体几十年的技术积累,最终在数以万计的专业的顶尖研发人员不断技术突破下才成功,荷兰的幸运在于目前只有荷兰掌握光刻机最核心的技术“侵入式光刻技术”,所以现在顶级光刻机只有荷兰有能力生产。

技术是研发的外在体现,任何技术的突破都是厚积薄发的结果,光刻机需要的技术方向特别多,比如机械化层面,自动化层面,系统科学层面等一大堆方向都需要有人去攻关,有些地方是知道技术壁垒的,但是如何突破技术壁垒还没有头绪,有些地方连技术壁垒在什么地方都没找到,更别谈技术突破了,而且任何一项技术的突破都需要长年累月技术投入,资金投入,人员投入。

技术积累并不是钱能够解决的,目前国内在光刻机领域做得比较好的是上海微电子装备和中科院的某个研究所,它们目前还停留在90nm研发产品阶段,而荷兰阿斯麦尔7nm的光刻机已经实现量产,当然这并不代表国产光刻机没有超越的机会,目前国内对光刻机的重视程度越来越高,大量的资金和顶尖的人才都在光刻机领域深耕研究。

国产光刻机其实只要在某些关键技术上取得突破,就算得上是弯道超车了,就好比荷兰阿斯麦尔在光刻机“侵入式光刻技术”上领先全球一样,没有这项关键性技术,就无法制造更顶级的光刻机,所以目前只有荷兰才有资格制造顶级光刻机。