国产光刻机一览

国产光刻机一览？

上海微电子装备有限公司：生产出90纳米的光刻机设备，这也是生产国产光刻机的最高技术水平，比ASML公司差不多有10年的差距。

中科院光电所：中科院光电所研发出365纳米波长，曝光分辨率达到22纳米的光刻机，是近紫外的光线，离极紫外还有一点差距。

合肥芯硕半导体有限公司、无锡影速半导体科技有限公司、先腾光电科技有限公司、中微公司。