x射线光刻的光刻胶是甚么 光疗美甲涂胶怎么刷技巧

x射线光刻的光刻胶是甚么

光刻胶英文是PhotoResist，又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂3种主要成份组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在暴光区能很快地产生光固化反应，使得这类材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等产生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部份，得到所需图象（见图）。 光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造和印刷制版等进程。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后构成不可溶物资的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物资的即为正性胶。利用这类性能，将光刻胶作涂层，就可以在硅片表面刻蚀所需的电路图形。基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为3种类型。①光聚合型，采取烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进1步引发单体聚合，最后生成聚合物，具有构成正像的特点。②光分解型，采取含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后,会产生光分解反应,由油溶性变成水溶性，可以制成正性胶。③光交联型，采取聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其份子中的双键被打开，并使链与链之间产生交联，构成1种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是1种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品KPR胶即属此类。 感光树脂在用近紫外光辐照成像时，光的波长会限制分辨率（见感光材料）的提高。为进1步提高分辨率以满足超大范围集成电路工艺的要求，必须采取波长更短的辐射作为光源。由此产生电子束、X射线和深紫外(＜250nm)刻蚀技术和相应的电子束刻蚀胶，X射线刻蚀胶和深紫外线刻蚀胶，所刻蚀的线条可细至1μm以下。

光疗美甲涂胶怎么刷技巧

光疗其实需要很需要技术~没学过最好还是去店里做吧~但我可以告诉你怎么做
需要的东西：光疗机，光疗笔（平头的小版刷），酒精或洗甲水或光疗清洗液（作用相同），亮片光疗胶，透明光疗胶，白挫，水晶挫，封层，结合剂，甲片（什么光疗专用，扯淡，都一样，就买价位高的就行四五十一大盒就相当好了）
1修形状，刻磨，贴甲片之前把自己指甲磨画，粘的牢固
2贴甲片，不要平着贴上，先把前端位置确定，四十五度角挤压贴上，没气泡（表面也要打磨）
3上结合剂（这个就跟指甲油似的，作用是加固光疗）光照1分钟（不知道你光疗机几个灯头，反正照一分钟就行）
4照完黏黏的不用管，没事，然后上亮片，用笔取少量亮片，铺在指甲前端，往后慢慢拉，做出过度，（最好两个一组这样做，省的变形）光照两分钟
5做好亮片，上透明光疗浇水，取一个黄豆大小，放到中间位置，往前后拉，做出中间鼓弧度的效果，指甲靠肉的地方留一毫米距离，省的起翘。一个一做，防止变形，光照两分钟
6都做完透明胶，拿出来用酒精（就刚才那三个任意一种）擦拭，把黏黏的那层擦掉，用看看有没有形状不满意的地方，或是小坑什么的，用白挫修形状
7上封层（也像是指甲油似的，别跟结合剂弄混了，这个比较干）光照两分钟
这就搞定了~~
其实没学过真不建议在家做，除非手把手学一遍，或者你再去店里做一遍，仔细看美甲师如何铺胶，回来按我的步骤就OK了~多联系就能越做越好了~

光刻机中国能造吗？

暂时不能

光刻机不是一项单一的技术，而是现代各项高科技技术的集成，成品背后需要无数的产业链支持，以中国现在的科技水平暂时还不能造出。

当中国专家去荷兰阿斯麦尔公司参观光刻机的时候，阿斯麦尔的高管直接对中国的专家说：就算给你全套图纸，你们中国也造不出光刻机。 很多中国人听到这句话都非常的气愤，凭什么中国就造不出光刻机？

近年来关于国产光刻机弯道超车的新闻频繁在各类媒体中出现，国人想要在光刻机技术上超越欧美发达国家的爱国情怀可以理解，但部分媒体为了博取眼球对国产光刻机过分的吹捧，不尊重事实的报道对普通大众而言其实是一件特别不负责任的事情。

理想很丰满，现实很骨感，以中国现在的科技水平确实造不出光刻机，光刻机不是一项单一的技术，而是现代各项高科技技术的集成，光刻机的内部十分复杂，可以说是人类知识集大成的产物之一，光刻机就像手机和汽车一样，是由无数的零配件组装合成的，最终实现某种功能，成品背后需要无数的产业链支持，各式各样的零配件都是行业内顶级的技术体现，没有长时间的深耕运作，国产光刻机在单一的某项技术上实现领先是没问题的，但是想要在整体上实现弯道超车，基本上不现实。

举个例子：比如马拉松长跑比赛，第二名与第一名的差距相差3公里，在某一个时间段，第二名选手的速度超过了第一名选手，这仅仅代表着第二名选手最终有超越第一名选手的可能，但是3公里路程的巨大差距却不是一时半会可以赶上的，想要超越，时间跨度将非常大，因为你在努力向前跑的同时对手也在努力向前跑。

荷兰阿斯麦尔之所以能够垄断全球最顶尖的光刻机市场，不是因为荷兰人聪明，单纯靠荷兰人也研发不出光刻机，光刻机的研发集合了全球优势资源加上半导体几十年的技术积累，最终在数以万计的专业的顶尖研发人员不断技术突破下才成功，荷兰的幸运在于目前只有荷兰掌握光刻机最核心的技术“侵入式光刻技术”，所以现在顶级光刻机只有荷兰有能力生产。

技术是研发的外在体现，任何技术的突破都是厚积薄发的结果，光刻机需要的技术方向特别多，比如机械化层面，自动化层面，系统科学层面等一大堆方向都需要有人去攻关，有些地方是知道技术壁垒的，但是如何突破技术壁垒还没有头绪，有些地方连技术壁垒在什么地方都没找到，更别谈技术突破了，而且任何一项技术的突破都需要长年累月技术投入，资金投入，人员投入。

技术积累并不是钱能够解决的，目前国内在光刻机领域做得比较好的是上海微电子装备和中科院的某个研究所，它们目前还停留在90nm研发产品阶段，而荷兰阿斯麦尔7nm的光刻机已经实现量产，当然这并不代表国产光刻机没有超越的机会，目前国内对光刻机的重视程度越来越高，大量的资金和顶尖的人才都在光刻机领域深耕研究。

国产光刻机其实只要在某些关键技术上取得突破，就算得上是弯道超车了，就好比荷兰阿斯麦尔在光刻机“侵入式光刻技术”上领先全球一样，没有这项关键性技术，就无法制造更顶级的光刻机，所以目前只有荷兰才有资格制造顶级光刻机。