光刻机研究了多少年

光刻机研究了多少年？

光刻机我国已经研究了四十多年！但距世界先进水平还有很大差距，之所以存在这个问题，我认为有以下几点：

首先，是综合国力问题，1977年我国正处于改革开放前夕，虽然在科研方面我国成功研发出了第一台接触式光刻机，但是综合国力尚且还很薄弱，国家处于转弯阶段，从政策到力量到支持都不足以支撑光刻机技术继续研发下去。

其次，外部环境问题。当时的世界尚处于冷战阶段，中美也刚刚建交，国防力量发展仍然是当时的重中之重，因此在设计到芯片领域的研发，尚且没有排在亟待解决的问题。

此外，在随后几年，我国正式开始改革开放，国门打开，许多国外的品牌蜂拥进入中国，各种资源各种产品只要我国花钱都能买得到，而当时我国正需要一个快速发展的阶段，因此在当时的选择上，直接购买使用国外已经成熟的技术应用到我们想要发展的产品上，对于整体国力和国家科技产品的推进上，要比自己去研发和制造效率要高得多。

当然，也有其他一些各方面的原因，这才导致我国虽然比ASML要早研发出光刻机，但是却错过了最佳的发展时期，不过却让我国研发出了世界上最先进的“云计算”，在某种程度上是一种以时间换空间的“兑子”行为。而现在在我国综合国力等条件全面崛起以后，芯片的问题就十分严峻了。总之一句话，导致当前芯片问题，是因为当年比起怎么活得更好，更重要的是要怎么活下去！