什么是光刻胶arf技术

什么是光刻胶arf技术？

光刻胶是指在光刻前涂在硅晶圆上的材料，只有涂了光刻胶的硅晶圆，才能够用光刻机将电路图刻到硅晶圆上。

而光刻胶按照技术难度、工艺等可以分为5种，分别为g线、i线、KrF、ArF、EUV。前两种是最常见的，也是最低端光刻胶，用于250nm以上工艺。

而KrF一般用于250nm-130nm工艺；ArF一般用于130nm-14nm，最多可以用于7nm DUV工艺；EUV光刻胶就是配合和EUV光刻机的了，一般用于7nm及以下工艺。

目前国内光刻胶的自给率大约在10%左右，并且能够生产的光刻胶，一般是g线、i线、KrF光刻胶，至于ArF、EUV光刻胶？不好意思，生产不了，主要得从日本进口。

不过在去年12月份，国内有一家厂商南大光电表示自己研发出了KrF光刻胶，已经通过验证，可用于45nm工艺，当时很多人质疑。

而在南大的业绩说明会上，南大光电正式表示，自己的ArF光刻胶已拿下第一笔订单，性能达到了日本产品的同等水平，得到了一家闪存客户的认可和使用。

不仅如此，南大光电还表示，自己的ArF光刻胶的相关原材料和生产设备已实现国产化，制程工艺可以满足45nm-90nm光刻需求，不需要依赖国外，产能是25吨每年。

南大光电其实是在2017年就开始研发ArF光刻胶的，到现在已经3年多时间，才成功生产出来，并有了第一家客户使用，可见真的不容易。

当然，从制程工艺术来看，45-90nm也不算特别先进，但ArF光刻胶最多是可以实现到7nm DUV工艺，只要能够生产ArF光刻胶了，那么再调整精度，相信达到7nm也不是特别大的问题了。

ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。