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光刻机波长分类

2024-01-10 12:38:14 互联网未知科技

光刻机波长分类？

光刻机波长分类

现在半导体生产中光刻机是必不可少的，通过配置不同波长的光源可以生产不同工艺和技术节点的芯片，光刻机的光源波长大致可以分为436nm(g线)365nm(i线)248nm(Krf)及深紫外193nm(Arf)和13.5nm的极紫外EUV光刻机，现在最先进的是EUV可以生产7nm以下的芯片！

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