先锋微电子的光刻机是多少纳米的？20纳米先锋公司推出的中端光刻机SMEE 350B的最小加工尺寸可以达到20纳米，适用于制造芯片、光学器件、MEMS等领域。需要注意的是，光刻机的加工精度和最小加工尺寸受到多种因素的影响，包括光刻机的光学系统、曝光光源、控制系统等。因此，在实际应用中，需要根据具体工艺要求和设备性能选择合适的光刻机先锋微技术拥有的光刻机主要用于模拟芯片的制造，采用的是三十五纳米的工艺，可以制造光电传感器和CMOS传感器等，主要应用于汽车、电力、工业等领域。
