光刻机的镜头和光源哪个难

光刻机的镜头和光源哪个难？

相对而言光源难些。

光刻机为人所熟悉，因为它是集成电路制造业的核心角色。目前荷兰ASML公司垄断的尖端集成电路光刻机，加工极限为7纳米。光电所的光刻机分辨率为22纳米，但定位有所不同。光刻机擅长加工一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片和超表面成像器件，这对遥感成像，生化痕量测量，特种表面材料等领域有重要意义。