扫描式光刻机工作原理？在半导体制造过程中，最关键的一道工艺是光刻工艺，其作用是将电路图形信息从掩模板上保真传输、转印到晶圆上。光刻的基本原理是利用光刻胶的感光特性，在光的照射下，光刻胶中的感光成分发生化学变化，从而实现将掩模板上的图形转移到硅片等表面上的目的，光刻的主要步骤是涂胶、光刻和显影。
