沉浸式光刻机是谁提出的

沉浸式光刻机是谁提出的？

沉浸式光刻机是台积电林本坚提出的。

沉浸式光刻机技术是台积电的林本坚提出的。2002年，时任台积电光刻技术研发负责人的林本坚提出了一项构想，即利用水做介质的浸润式光刻。原理是利用光通过液体介质时会弯折的特性，显微镜的影像透过浸湿的镜头会进一步放大。相反地，当光线通过浸在液体中的微缩影镜头时，就能将影像藉由折射率进一步缩小。林本坚认为市面上既有的193nm微影透过水折射的效果要比正在攻克的157nm效果会好得多。

台积电工程师林本坚提出的