7nm光刻技术原理？7nm光刻技术是指利用光刻机将芯片制作所需的电路图案投射到硅片上，实现微米级别的制作。其原理是利用紫外光通过掩模将芯片电路图案投射到硅片上，然后将硅片进行化学加工，最终形成电路。7nm光刻技术在芯片制作中具有高精度、高效率和高可靠性等优点，是当前先进芯片制作的重要工艺之一。
