哈工大在光刻机领域的实力如何

哈工大在光刻机领域的实力如何？

1.

哈工大的“高速超精密激光干涉仪”技术根据官方介绍，哈工大的“高速超精密激光干涉仪”技术突破了核心测量方法和工程化关键技术，在该领域解决了测不准、测不精、测不快的核心难题。该技术用于确保掩膜工作台、双工作台和物镜系统之间复杂的相对位置，实现光刻机的整体套刻精度。然而，就像物理课本上常说的“要获得更小的波长，需要更高的技术层次”，想要实现7nm芯片，其实还需要攻克很多技术难关。

2.

光刻机的核心部分要理解光刻机技术，首先需要了解光刻机的核心部分。通常，光刻机由三个核心部分组成：光源、物镜系统和工作台