纳米压印和光刻机的优缺点

纳米压印和光刻机的优缺点？

压印只能单层，光刻机可以多层。

芯片生产中的光刻技术，就相当于激光打印技术，而纳米压印技术则相当于印刷技术。纳米压印天生就有一定的优越性。但是说它能完全替代光刻技术，还为时过早。比如纳米压印目前只适合单层加工，多层的对齐难度比光刻机高很多。而且压印技术需要的在高温高压的工作环境下，精度不好控制，工作效率不高。纳米压印与光刻机技术相比就是操作简单、设备简单、后续工艺的兼容性还很好。